elfwong wrote:
外行人的我想問個問...(恕刪)
在半導體製程技術的發展
X-ray當然有
不過是用在微機電製程上
X-ray的問題是mask
光阻擋不了
請google找一下LIGA製程
原先是用同步幅射X-ray
用金屬mask
可以穿透3mm的PMMA
這種高深寬比結構是用來製作高深寬比的微模具用的
問題是光源是台灣只有一台在新竹同步幅射中心
後來有開發厚膜光阻如SU-8
用I-line可以曝到50微米以上的厚膜光阻
直接用SU-8當結構
叫做LIGA-LIKE製程
(SU-8超難清的)
X-ray的重點在於厚膜光阻的曝光
連PMMA都可以曝
而IC產業,EUV就夠了,3nm線寬都沒問題
直到碰到物理之牆都應可以
用X-ray還麻煩
厚膜光阻都是負光阻
解析度不好
心的通透 並非沒有雜念 而是明白取捨
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