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SNDK都砍半了,多殺多連環爆[鬱卒]
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今天又熔斷了，冷靜後稍微拉起來
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上次韓國休假我們就被殺得很慘，也是要感謝人家分散火力
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oculata wrote:
老美恐怕不會這麼想
將中國永遠壓在最低階、污染最重的資源輸出國才是美國心目中的大勝。
對一個晶片全球需求量最大的製造業大國而言，任何工業產品包含先進製程晶片在內的自主生產幾乎都沒有絕對瓶頸，差異只在要花多少時間。
西方世界非常幸運的擁有製程推進速度超快的台積電，如果單靠老美自家英特爾，恐怕中國會更快趕上！
美國也不是甚麼都限制
面板產業都沒限制
LCD, OLED隨亞洲人怎麼做隨你便
就算全部中國製也沒限制甚麼
不過關鍵機台如AMAT還是要買多少隨便買...
液晶材料莫克還是獨占
歐美爽爽的賣機台與材料
至於半導體
高階製程門檻高
就算是三星也是良率慘兮兮
三星爆肝的程度比台積更狠更沒人性
還是打不過...
半導體整個產業供應鏈
一直都是大者恆大
況且Intel與三星這種IDM屬性的
不像台積電甚麼功夫都會
產品包羅萬象
內功遠比一般人想像的深厚...
外行人不知道的是
浸潤式曝光是台積電的林本堅提出
與ASML合作研發出來的
EUV的原型機
也是ASML與台積共同開發
中國小粉紅一直都在吹彎道超車
偏偏台積剛好相反
一個製程表面上是兩年一代
其實是兩個研發團隊研發四年隔代開發
那麼四年的開發
依照roadmap的進展
台積的RD剛開始也拿不到最新的機種
拜託ASML也生不出來
所以7nm就先練4重曝光
然後再練EUV
最先進製程剛開始投入時
哪來的High NA EUV
配套的metal oxide PR在哪邊???
當然是先練EUV雙重曝光
幾年前與台積的EUVL RD"離職"博士聊天
依照ASML 的roadmap
剛出來的High NA EUV不是量產型
曝光面積只有EUV的一半
根本不是台積想要的機型
功都已經練出雙重曝光了
機台還沒ready
想當然爾用EUV...
Roadmap, KPI, SPC, CP, CPK, MTTF...
要作文就一句彎道超車就行了...
三星的工程師壓力很大
高層拿台積的KPI來壓人
朝.鮮.地.獄.呀~
就算是表面上好的晶片
都.是.噴.火.龍.客.戶.會.要.嗎⋯
