NQQegg wrote:
一堆不懂內情的人在作文
報載隨梁去三星的人與實際去的人不大一樣...(恕刪)
我有說<報載>怎樣嗎?
看看 TSMC 怎麼告樑就可以了，法院公證的
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群毅 wrote:
英特爾的10奈米實...(恕刪)
用到EUV就麻煩了
基本上用四重曝光頂著用
EUV與以前失敗的157nm的曝光機的問題其實有點類似
因為波長157nm就進入了silica的吸收光譜中
也就是玻璃材質的透鏡不能用
所以EUV機台不能用透鏡
那怎麼辦
全部用反射鏡...
13.6nm的波長能量又強
容易把光阻撞出電子
電子撞出當然又會讓其他部份的光阻曝光
其實
Intel/TSMC/三星都是fab
基礎的研發也沒有學術界與設備商紮實
半導體業的學術界大咖是比利時的IMEC
IMEC與光阻商試了一百多種光阻在EUV上...
重點是二次電子的問題目前還沒有徹底解決
在5nm問題就會很大...
至於前面有人說白人說了甚麼..
白人也沒甚麼了不起
林北十幾年前也窩美國
白人哪有比較利害...
健人就是腳勤
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