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飞舞的蜡笔 wrote:
来自荷兰ASML193nm沉浸式设计的光刻机，目前已运抵武汉天河机场，相关入境手续办理完毕后，即可运至长江存储的工厂。 据龙心科技了解，该款光刻机可生产20-14nm工艺的固态硬盘芯片，售价达7200万美元。后续，长江存储还会引入更多光刻机。...(恕刪)
軍版的人在鬧笑話
ASML的193nm波長曝光機
中芯不知有多少台
193nm的曝光機有錢誰都可以買
很多人以為有曝光機就可以做很精細的製程
其實那就大錯特錯
193nm的resolution R大概是38nm
再精細就要用重複曝光
重複曝光各家有個家的know how
跟曝光機無關
現在都是FinFET
在時事區也是一堆不懂的人在嘴砲
所以也懶得理了
連
Fin
Gate
Matel
Via
Contact用那些曝光製程都不懂
那該如何談起...
曝光機有幾個重要的參數
NA
K1
DOF
有多少人知道其連動關係???
有多少人了解曝光機發展的歷史？
193之後本來是157奈米波長的曝光機
20年前有開發157nm曝光機但失敗
是因為其波長掉進silica的吸收光譜中
台積電的林本堅想到用浸潤式製程
改寫半導體發展歷史
所以林拿到中研院的院士
唯一一個業界的院士
20年前的resolution公式R與現在的公式差一個係數
就是immersion lithography 需要水的折射係數
20年前的193 與現在的193i是不一樣的
現在的EUV不用immersion lithography
故事很多...
像這種垃圾帖就跳過吧...
沒有專業人士的討論只會淪於嘴砲...
浪費賺錢的時間~
健人就是腳勤
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