economic wrote:
INTEL沒這麼差且INTEL...(恕刪)
接下來換intel卡tsmc去美國設廠
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前幾年甘棕松的新聞很熱
但那時是直寫式的光刻機
無法用於晶片大規模量產
現在投影式的小型樣機已測試完成
目前在搞投影式的大型工程樣機
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雙光束超分辨投影光刻實驗樣機也於2019年完成測試，正在開展大型工程樣機的研發，快速推進產業化進程。
“相比於荷蘭的第五代極深紫外光刻機，我們研製的第六代雙光束超分辨光刻機的樣機目前離大規模集成電路製造尚有一點差距，這主要受制於資金而不是 技術。”甘棕松告訴長江日報記者，第六代雙光束超分辨光刻機因為是小型樣機，一次曝光面積不大，但是較低性能版本的設備目前已經在國內實現了售賣。 第六代雙光束超分辨光刻機不僅可以解決我國高端光刻機有無問題，而且還能夠以極高的性價比優勢顛覆芯片製造領域的國外技術壟斷。
