super bandage wrote:所以你現在是在根本認...(恕刪) 來來你找出我斬釘截鐵說9000s不是對岸自製的證據你找得出來--我退出01你找不出來--你退出01有沒有問題?你怎麼不敢回我了?翻車王又縮了?
dfmtf wrote:初期廠家是按他們的立體工藝的效能對應的平面工藝的閘寬來命名但也好像越來越跨大了 如果以電晶體密度來對比個人是還能接受啦,不過如果自稱有達到那個工藝,但實際能校比卻沒提升的就屬於是自打臉了,像這次A17 PRO用了3nm,但能校比卻沒比4nm更好,那這個提升的必要性就得要多商榷了。
超級小任任 wrote:像這次A17 PRO用了3nm,但能校比卻沒比4nm更好,那這個提升的必要性就得要多商榷了。 如果只是拿來當宣傳,到也無可厚非,之前我在開發產品的時候,用了尺寸更小的SMT零件可以使產品更輕薄短小,就會拿來當廣告訴求,但是效能(耗電,散熱..等)不一定比較好.
watching-guy wrote:如果18A只是5nm, 是要怎麼一舉超越台積電與三星? Intel 向來晶體密度最大,GG 次之,三爽最小早期 Intel 也是用 gate length 來區分製程,後來在 10nm 落後 GG 後改用晶體密度來命名,Intel 3 就是跟 GG 3nm 密度相同的意思至於 Intel 20/18A 因為 GG 還沒有看到東西,所以也無法評論就 Intel 自己想的
厚實的肚子 wrote:Intel 向來晶體...(恕刪) 題外話,當初 Intel 會落後 GG就是因為 Intel 覺得 10nm 不需要用 EUV結果搞三年無法量產不過 Intel 絕對不是 DUV 做不出 10nm他們良率沒有達標是不敢賣的,不像某廠會用測試來篩 IC
厚實的肚子 wrote:題外話,當初 Intel...(恕刪) Intel 首款 EUV 製品是 Intel 4的 Meteor Lake而Intel 4 是 7nm的製程所以 10nm 真的是不需要EUV 製程===================================================https://technews.tw/2023/04/29/intel-meteor-lake-processor/Meteor Lake 不僅是第一款採用 Intel 4 製程的處理器,也是第一個 EUV 微影曝光技術支援的製程,對英特爾是關鍵一步。EUV 不但能降低大量生產晶片模組(CPU tile)的成本,且台積電 5 / 6 奈米繪圖晶片模組(GFX tile),系統晶片模組(SoC tile)及輸出入晶片模組(IOE tile)也能有較佳良率,減少生產成本。
不吃菜菜小娃 wrote:用TEL P 12之類的就可以篩了、不良的直接ink 一打 不管你如何篩 yeild 80% 的 RMA rate 最少是 yield 90% 的兩倍Intel 在意的是這個對華為來說就換一台就好了對 Intel 來說會面對消費者集體訴訟