上海微電子（SMEE）在 2026 SEMICON China 展現存在感
SMEE（上海微電子）佔據了 SEMICON China 主展場 N4 館的正中央。該公司宣告「將憑藉自身力量製造光刻（Lithography）設備」，目標是挑戰「中國版 ASML」的地位。SMEE 在展位現場展出了自主研發的光刻機模型，並詳細公開了設備的內部結構。在展覽期間，SMEE 每天舉辦兩次技術說明會，吸引了數十名觀眾聚集。
與往年嚴禁攝影的做法不同，今年現場開放了拍照。這展現了該公司對技術的自信。現場疑似中國記憶體廠商相關人士的觀眾，不斷用手機拍攝照片並接連提出技術詢問。
問：（晶圓傳送裝置的）驅動方式是採用滾珠螺桿（Ball Screw）嗎？
答：不是，是採用直接驅動（Direct Drive）方式。
（*註：此為 ASML 採用的方式，比滾珠螺桿速度更快、精密度更高。）
問：最高可支援到幾奈米（nm，1nm = 10億分之一公尺）製程？
答：可涵蓋 100 奈米至 10 奈米的製程範圍。
問：光學鏡頭組似乎很複雜，總共配置了多少個鏡片元件？
答：共有 30 個。
問：機台的剛性（Stiffness）高嗎？
答：是的，我們使用了極佳的材料。
（*註：剛性越高，微振動越小，能實現更高精密度的結構。）
問：每片 12 吋晶圓的曝光點數（Shot Count）大約是多少？
答：這取決於具體的工藝流程與裸晶（Die，晶片的基本單位）的大小。
光刻設備是利用光在晶圓上繪製微細電路的半導體製程必備裝置。由於技術難度極高，全球僅有荷蘭 ASML 與日本的 Nikon、Canon 具備製造能力。其中，能製造用於生產 NVIDIA 最新圖形處理器（GPU）等尖端晶片的極紫外光（EUV）光刻設備的廠商，僅有 ASML 一家。
SMEE 主張已自主研發出 EUV 前一階段的深紫外光（DUV）光刻設備。在展會現場受訪的 SMEE 員工表示：「這台設備（DUV）已經進入量產並銷售給客戶。」該員工帶著自信的神情對現場觀眾高聲說道：
「這是我們 100% 自主研發的雙工件台掃描（Dual-stage Scan，兩個晶圓台交替掃描曝光）方式的光刻機。透過氟化氬（ArF）準分子雷射向上發射光束，經由光學系統精密對準後，在晶圓上繪製電路圖案。」
SMEE 對於「技術自立」表現出相當強烈的自豪感。事實也是如此，受到美國出口管制的影響，中國自 2023 年起甚至無法購買 ASML 的 DUV 設備。SMEE 本身已被列入美國商務部的實體清單（Blacklist），無法從西方國家採購所需的零部件。陷入困境的中國在此期間磨刀霍霍，他們的下一個目標正是 EUV。
只要擁有 EUV 技術，中國晶圓代工廠 SMIC 就能直接以良好的良率，製造由華為設計的 AI 半導體。這正是美國最擔憂的情況。
https://www.joongang.co.kr/article/25417921
City News Service採訪上海微電子
上海微電子（SMEE）打破沉默，公開光刻技術進展
上海微電子（SMEE）在本次活動中展示了其 100% 自主研發的光刻技術。現場工作人員證實，這些曾處於實驗階段的系統已正式進入量產階段，且年銷量成長率已達雙位數，進一步鞏固了其作為荷蘭大廠 ASML 國產替代方案的地位。
https://www.citynewsservice.cn/articles/china-biz-buzz/tech/chip-firms-signal-localized-supply-chain-at-semicon-china-2026-zmab086n
