從中國國產193nm ArF光源DUV光刻機的新聞看此工信部目錄的其他設備

好圖狼

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11樓

好圖狼

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文章編號：90334649

旋風 wrote:
快了快了！吃不上飯改...(恕刪)

你知道台灣過上這種日子的速度會比老共快

going_down

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going_down

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文章編號：90334674

要证明，很简单，什么时候中国能造出3nm晶片

那就证明中国有能力造国产Euv了

我再等10年能造出来吗？

mini_pull

237分

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mini_pull

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文章編號：90334767

going_down wrote:
要证明，很简单，什么...(恕刪)

看这说话风格
够因荡是又换人了啊？

nomo333

980分

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nomo333

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lowstar wrote:
一個193nm ArF光源非浸潤式DUV光刻機爲什麽能引起這麽多新聞，實在是搞不清楚，因爲這個性能指標只是ASML TWINSCAN 1460K的水準，2006~2008年的產品。

我們可以合理懷疑實際上中國大陸已經做出193nm ArF光源浸潤式DUV光刻機（對標ASML TWINSCAN 1980系列）才會將舊一代的設備列入目錄。

上海微電子的28奈米光刻機
1.0版與2.0版都已經量產
2.0版在中芯可以生產對標台積電N5製程