光刻機
【12月22日訊】導語，相信大家都知道，在全球眾多光刻機裝置廠商中，唯獨荷蘭ASML能夠生產製造用於7nm、5nm以及3nm以下的EUV光刻機裝置，而對於日本尼康、佳能、中國上海微電子所生產的光刻機水平依舊維...
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高通看华为80亿美元需求，正在全力游说美国政府，没想到华为光刻机有突破，5nm工艺成熟不看美脸色
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照中國漢蕊的先例,看到這種所謂"大突破的新聞,一定先假定是造假,果不其然,馬上被人踢爆是造假,最搞笑的是連吹牛的人自己也馬上改口了,還特別強調這個不能拿來造IC,現在通通推給記者,說是記者吹的牛皮這個是利用surface...
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【4.6亿元！进口ASML光刻机已抵达武汉机场，四季度投产3D NAND闪存芯片】来自荷兰ASML193nm沉浸式设计的光刻机，目前已运抵武汉天河机场，相关入境手续办理完毕后，即可运至长江存储的工厂。 据龙心...
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目前掌握了晶元製造核心技術全球只有4個國家荷蘭 日本 美國 中國其中荷蘭最先進，目前最新一代光刻機能做到14納米（ASML）其次日本，能做到16納米（Nikon、canon）接著是美國，也是16納米（ultratech...
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