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DUV

中國實現國產DUV曝光機　可生產8奈米及以下晶片

中國實現國產DUV曝光機　可生產8奈米及以下晶片

【國際中心／綜合外電】中國工信部近日公布一項通知顯示，中國已取得重大技術突破，研發出深紫外光曝光機（DUV），可生產8奈米及以下晶片，目前正在推廣應用。中央社報導，中國工業和信息化部官網9日公布「首台（套）重... 更多

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