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Biggest King wrote:
TSMC 已經賣掉...(恕刪)
根據《路透社》與《彭博社》 的報導，南韓三星電子8 日表示，將出售其歐洲子公司手中所持有的荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML) 控股的部分股份，其總價大約為6.06 億歐元(摺合新台幣約213.57 億元) 。
報導中指出，根據三星所公布的交易細節顯示，三星歐洲子公司將以大約6.06 億歐元的價格出售630 萬股ASML 股票，其比率約占ASML 整體股權的1.45%，而交易將在9 月12日完成。三星表示，此次股權的出售不會影響兩家公司的戰略夥伴關係。而依據三星在8 月16 日提交的監管的文件中顯示，三星在子公司出脫ASML 股權之前，總計持有1,260 萬股ASML 股票，持股比率占整體股權的2.9% 。
原文網址：https://kknews.cc/news/8zyo5n.html
死刑不是萬靈丹，廢死必是萬毒王!!
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買斷相當容易
但以半導體產業來說
三星也只能與Intel/Tgg分庭抗禮
TGG一年的設備投資也超過一百億美金
三星與Intel/TGG是當初投資ASML的廠商
當初也是ASML股東
目前TGG還有下訂單
韓國消息看看就好...
ASML可得罪不起Intel與Tgg,三星能永遠買光ASML的機台嗎???
馬路消息是截至4 月份，ASML 積壓了21 台EUV 系統等待出貨，據說其中有大部分是英特爾的訂單。
路邊社報導
連UMC都訂了兩台,但不知何時才能交貨
都被Intel/***/Tgg佔了...
三星如果要追加訂單10台,一樣不知要排多久~
我覺得我都比那個韓媒強太多了...
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我要是沒記錯的話
ASML的光學是與ZEISS合作
EUV光源是Cymer做的,然後被ASML購併
問題是Cymer的功率做不大出來
晶圓廠的最基本條件是
功率250W的EUV 125WPH (Wafer Per Hour)的throughput
可是到了今年七月ASML才宣稱功率達到125W
Throughput呢?
今年2月的消息
WPH是104, 125還達不到
ASML的量產型是NXE:3400B , 出貨給Intel
125WPH
再努力吧...
ASML購併Cymer其實幫助不大
因為Cymer從80W玩起,到125W後就遇到困難
然後一家公司Gigaphoton雷射驅動電漿的方法(LPP)使光源的功率達到250W
ASML或許會與Gigaphoton合作
NXE: 3400B根據ASML官網:
The TWINSCAN NXE:3400B will support EUV volume production at the 7 and 5 nm nodes. Combining productivity, excellent image resolution, matched overlay to EUV NXE and ArFi NXT tools and focus performance, the TWINSCAN NXE:3400B provides lithography capability complementary to ASML’s ArFi technology.
Improvements on the EUV source industrialization, overlay and focus enable a robust solution for cost effective volume production from 2018/2019 onwards.
The NXE Step-and-Scan systems use 13.5 nm EUV light, generated by a tin-based plasma source. The systems feature all-reflective 4x reduction lens assemblies from Carl Zeiss SMT with a maximum exposure field of 26 mm by 33 mm.
The NXE:3400B will be equipped with projection optics with NA 0.33 and a new illuminator with operating range sigma 0.06 - 1 to maintain high productivity while enabling low-k1 and a resolution of 13 nm.
In-situ measurement and corrections per wafer of the optics and stages enable maximum imaging performance of overlay and CDU for each wafer exposed when imaging at low-k1.
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第二代EUV系統預期2024年問世
圖表中2018年的星星符號數量代表將採用EUV設備量產的晶片廠商數量，在2024年的星星符號則是代表ASML預期屆時將推出0.5NA系統
（來源：ASML）
如果沒有半導體製程的知識,很難知道NA與K值的設計,這要講很久就算了...
正式量產第一代EUV系統NXE:3400b，接下來的新一代平台則是0.5NA系統
（來源：ASML）
EUV的好處是
採用今日的immersion lthography步進機需要以triple or quad-patterning才能實現的電路圖形，若採用0.33NA的EUV系統預期只需要單一光罩步驟就可完成；不過半導體製程若再繼續往更細微節點邁進，就算採用EUV設備也可能需要多重圖形步驟，因此會有0.5NA設備需求。
ASML的NXE:3400B的power有沒有到250W的power???
三星要一次買斷NXE:3400B嗎???
後面出的 NXE: 3450C, 350W LPP, Throughput 145WPH 怎麼辦?
還有未來更猛的high NA值的怎麼辦?
ASML的waiting list還排的很長,要追加訂單也是要排隊...
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