三星超越台積電,三奈米領先量產

回歸主題,台積電跌純粹就是大環境的問題,三星根本是假議題。
另外,晶圓代工重點在於良率,三星3奈米量產,不代表什麼,良率如何才是重點。
個人對於股價的認知

股價是由市場決定的,當市場信心很強時,大家都想買這家公司的股票,股價自然水漲船高,反之亦然。

再來台G跟三爽比股價?首先上市的國家就不一樣了,再來業務性質也不一樣,台G就是純粹的晶圓代工;三爽如果是有一家子公司三星電子在韓國上市,那也只是能拿來討論,畢竟三星電子業務不止有晶圓代工(實際上是如何我不知道,因為我對三爽沒興趣)

結論

台G的股價下跌,我的認知是市場信心下跌,市場信心下跌可歸究於很多因素,不一定只是單單三爽在6/30發表了3nm“量產”的消息,就能決定台G未來股價,畢竟在6/30新聞發佈前,台G就已經是走跌了,難道是要解釋成投資人在那之前就覺得台G會被三爽彎道超車,所以紛紛脫手台G嗎?

最後
不管樓主看好三爽或看衰台G,把自己看成神,別人未必會照做,因為大家都是要吃喝拉撒睡的凡人而已
鈔能力
禁止任何人使用小弟的文章作為投資依據喔,感恩
三星發佈的3奈米製程是用GAAFET技術,
台積2022下半年3奈米製程還是沿用FinFET技術
台積是預計在2025年才會在2奈米用GAAFET技術

首先,三星在FinFET良率遠遠不如台積電,
就跳進GAAFET技術,
就好像還不是走得很好,就想在100米跑進世界紀錄

個人是覺得製程GAAFET太過於複雜,
再給三星幾年的時間發展,
做白工也不是不可能
speedicer wrote:
三星發佈的3奈米製程是用GAAFET技術,
台積2022下半年3奈米製程還是沿用FinFET技術
台積是預計在2025年才會在2奈米用GAAFET技術

首先,三星在FinFET良率遠遠不如台積電,
就跳進GAAFET技術,
就好像還不是走得很好,就想在100米跑進世界紀錄

個人是覺得製程GAAFET太過於複雜,
再給三星幾年的時間發展,
做白工也不是不可能


您算是有吸收資訊的朋友

看法有兩種

1.三星提前三年試錯,三年後遠甩台積電

2.三星三年都不知道怎麼錯,三年後直接倒閉.......

我不認同第二點拉

嘿嘿
所有文章,不涉及實質投資建與推介,或任何股價之臆測及規劃,嚴禁引用筆記內容作為任何投資決策之來源
steventym wrote:
回歸主題,台積電跌純粹就是大環境的問題,三星根本是假議題。
另外,晶圓代工重點在於良率,三星3奈米量產,不代表什麼,良率如何才是重點。


關鍵不在於假議題

人家確實已經開始採用最新技術

很難沒有錯,但,提前三年實戰,成功的話,領先台積電三年

當然,失敗的話,滅頂之災難免

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steventym
現在才留意到,這是我學長耶![XD]
我記得INTEL有針對三星跟台積電的製程做評比

內文好像直接吐嘈三星

好像比擠牙膏還不如
Mask Wang wrote:
我記得INTEL有針(恕刪)


只要知道一件事情就好

目前全世界代工只能找兩家代工

1.台積電
2.三星

沒有誰好不好

只有誰,現在,可能,暫時,好一點
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鈔能力 wrote:
只有誰,現在,可能,暫時,好一點

直接講哪家應該不難吧
三星過去唬爛歷史太豐富了
3nm要彎道超車
不要犁田就好了
鈔能力
沒意見
鈔能力 wrote:
1.三星提前三年試錯,三年後遠甩台積電



這就像之前到底新世代製程要選擇多重曝光還是EUV,三星就選擇EUV率先跳入,Intel則是SAQP四重曝光結果卡了好多年。台積兩邊押寶但是先走多重曝光,看到三星又看到intel,7nm不久也改成EUV技術(還好EUV早也買了,Intel就哭哭),算是比較保守但又不會卡到自己。
Homepod變磚恢復 https://ppt.cc/fDAerx
鈔能力
專業
鈔能力 wrote:
補充內文:台積電不弱(恕刪)



台積電的真正對手是SAMSUNG。今日2330和005930的股價可以做對照。
2330降,005930升。
同時KRW韓圜兩年來一路爬升從1000到1300,而TWD新台幣一路走低從31.5到28,最近才回歸30,都造成台積電以及工具機業的基本劣勢。


https://www.londonstockexchange.com/stock/SMSN/samsung-electronics-co-ltd-att/company-page
SMSN三星電子

https://www.nasdaq.com/market-activity/stocks/tsm
TSM台積電

三星與ASML達協議 採購下一代 High-NA EUV曝光機



韓媒《BusinessKorea》週四 (30 日) 報導,三星電子和 ASML 就引進今年生產的 EUV 曝光機和明年推出高數值孔徑極紫外光 High-NA EUV 曝光機達成採購協議。

三星電子副董事長李在鎔本月初赴歐洲之行,他在 6 月 14 日前往 ASML 位於荷蘭 Veldhoven 的總部拜訪執行長 Peter Wennink ,兩家公司簽署一項協議,將引進今年生產的 EUV 曝光機和計劃於明年推出高數值孔徑極紫外光 High-NA EUV 曝光機。

High-NA EUV 曝光機設備精密度更高、設計零件更多,是延續摩爾定律的關鍵,推動 2 奈米以下製程電晶體微縮,估計每台要價 4 億美元 (5000 億韓元)。

ASML (ASML-US) 今年只能生產 50 台 EUV 設備,交貨週期為 1 年又 6 個月,ASML 有限的生產能力和較長的交貨時間正加劇各大晶圓代工廠訂購 High-NA EUV 曝光機的競爭。
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