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ASML EUV極紫外光曝光顯影設備100%由荷蘭製造? 除荷蘭外有多國技術含德國,美國及日本. 不然你以為川普是靠什麼威脅ASML?
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成急思汗 wrote:
EUV極紫外光曝光顯影設備100%由荷蘭製造，美國奈何得了ASML?
ASML 的 EUV 光刻機（極紫外光刻設備）是目前世界上最複雜的製造裝置之一，雖然整機由 ASML 荷蘭組裝，但其中有若干 不可或缺的關鍵外國技術，主要來自 德國、日本、美國 三國。
主要關鍵外國技術來源:
投影光學系統 / 多層 EUV 反射鏡
來源國：德國
供應商：Carl Zeiss
說明：EUV 光無法用透鏡，只能靠多層反射鏡，Zeiss 提供全球唯一能做到這種精度的光學組件。
高功率 CO₂ 驅動雷射（用於產生 EUV 等離子光源）
來源國：德國
供應商：TRUMPF
說明：EUV 光源靠液態錫微滴被 CO₂ 雷射擊中形成等離子體，TRUMPF 的雷射系統是核心技術之一。
EUV 光源核心技術（錫液滴生成器、等離子體光源基礎專利）
來源國：美國（Cymer 起源，現已被 ASML 收購）
說明：EUV 光源最初由美國 Cymer 開發，後被 ASML 吸收整合，仍屬於關鍵基礎技術。
光罩基板（mask blanks）與保護膜（pellicle）
來源國：日本
供應商：HOYA、NTT 等
說明：EUV 光罩需要極高純度的石英基板，日本廠商壟斷了這一關鍵環節。
量測與檢測系統（metrology & inspection）
來源國：美國、日本
供應商：如美國 KLA、日本廠商提供檢測與校準設備
說明：EUV 機台必須持續自動對準與檢測，這些量測設備是維持良率不可或缺的一環。
總結:
關鍵國家數：主要 3 國（德國、日本、美國）。
主要技術數：至少 5 大類核心技術（光學鏡片、雷射系統、光源基礎、光罩材料、檢測量測）。
其他供應鏈：ASML 還有數千家供應商，遍佈歐洲、美國、日本、台灣、韓國等，提供零組件與材料，但若只談「不可或缺的核心外國技術」，基本集中在上述三國。
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老美對荷蘭/ASML施加的壓力及逐步加重的力道比對TSMC可能還更早，緊盯的程度到訂單輸出必須經由美國核准才准放行(等於ASML的組件供應商與客戶等資訊商業機密全被看光)
荷蘭/ASML不是沒有解釋過，ASML基本上跟TSMC的說法類似，如果讓它們自由在中國市場上發揮，可以有效吸收中國市場上的對手資源，讓其沒有足夠誘因跟資源發展，也有利於美國利益，只是老美聽不進去
