應用材料公司（Applied Materials）宣布推出新系統產品，藉由新的電晶體佈線工程設計，大幅降低電阻，讓影響晶片效能與功率的重大瓶頸迎刃而解。
主流晶片廠商正在運用微影技術，將晶片縮小至 3 奈米和以下節點，但是導線越細，電阻便會以倍數增加，導致晶片效能降低，並增加耗電量。若放任佈線電阻的問題不管，先進電晶體的優勢可能會蕩然無存。
應材公司指出，製作晶片時必須將佈線沉積到介電材料上的蝕刻導孔和溝槽，而傳統的方法是使用金屬疊層進行沉積，包含避免金屬與介電材料混合的阻障層、可增加附著力的襯墊層、幫助金屬填充的晶種層，以及電晶體接點所用的鎢或鈷和導線所用的銅等導電金屬。由於阻障層與襯墊層的微縮效果不佳，因此當導孔和溝槽縮小時，導電金屬可用的空間比例也會降低，而佈線越小，電阻就越大。
應材公司推出的 Ioniq PVD 系統是整合性材料解決方案（Integrated Materials Solutions）的產品，在高真空環境下將表面處理與物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）製程整合在同一套系統。
透過 Ioniq PVD 系統，晶片廠商可以將使用氮化鈦製造的高電阻率襯墊層與阻障層，替換成使用 PVD 沉積的低電阻率鎢膜，並結合使用 CVD 沉積的鎢膜，形成純鎢的金屬接點。這項解決方案進而解決電阻問題，讓 2D 微縮技術持續應用在 3 奈米和以下的節點。
應用材料公司資深副總裁暨半導體產品事業群總經理帕布‧若傑（Prabu Raja）博士表示，創新的 Ioniq PVD 系統產品解決了影響電晶體效能的重大瓶頸，不僅能提升運作速度，還能降低功率耗損。
每個字看得懂 但合在一起卻不懂
只知道只控制一個變因
卻呈現不同的變化程度
感覺這料理工法 所需的條件
越來越複雜 適應性不像以往的情形
個人積分：11150分
文章編號：85036983
個人積分：481分
文章編號：85051928
我在想該不會3奈米以下真的要改成光子傳輸了，俗稱現在的量子運算。
也就是用電子或者光子等粒子的狀態改變當成訊號值然後做運算。但現在據說精度只有99.7%，還是會算錯，而又沒有馬上可以糾錯的運算機器。
又或者換成石磨稀?
這兩樣技術偏偏現在還是有很多製造困難還有根本沒有半間工廠有做過的經驗，連量產品都沒有。確實是個大問題。
石磨稀的問題在於定型跟強度，目前所知就像個碳粉一樣脆弱。
而量子計算，要如何把能量子這種接近原子的狀態探測出來光是測定原子這部分已經是很困難了，已知測定法其實是用推論法測得，又要把它當成訊號測量單位?而目前也未得知公開實驗成功的實際測試方法，只有概述理論。
