fengsha11 wrote:
现在中国3条光刻机的(恕刪)
我引過的這篇報導?裡頭對量產實力可是很推崇的 ....
這項新技術打破了雷射直接寫入的傳統限制,使其能夠進行奈米級處理。大陸團隊開發了一種新型三層堆疊薄膜結構超高精度處理基於新型的三層膜結構。採用雙雷射束交疊技術,通過精確控制能量密度及步長,實現了5奈米的特徵線寬。值得注意的是,這是與ASML的EUV極紫外光刻技術完全不同的技術路線。
除了高精度外,該技術還展示了量產的潛力。雷射直寫技術可以每小時生產多達500,000個特殊的奈米電極。
真要自主研發! 大陸中科院發表5奈米光刻技術



























































































