俄烏之戰 2 : 世界將會迎來新秩序

economic wrote:
我可沒拿EUV說事
我說的是商用DUV


DUV光刻機是不會公布的
中芯國際也不公開招標的
只能等解密

或者只能等某廠商的電子產品上市銷售
才能知道進展到哪裡

傳言第3季某廠商的手機產品會出現
到時再看吧

而EUV
在今年上半年中國大陸公布一大堆的EUV各部、系統整合等等的專利技術
老外推測,已經在組裝工程樣機了


擷取某篇文章一段
英翻中,機翻:

去年上半年,28納米節點光刻機的產品負責人召開會議時,項目審批人表示不確定延遲的時間,因為大家對產品的完成沒有信心。

後來產品突然發布,公司很多人都不知道,保密工作做得非常好。
liyuer
等9月華爲有沒有麒麟出來就知道了
A S M L: 過去大聲叫囂E U V光刻機圖紙丟給中國也造不出來!現在大罵中國研發EUV光刻機是破壞全球半導體供應錬!

現在到底是什麼狀況?有人知道?
nomo333 wrote:
DUV光刻機是不會公...(恕刪)


DUV就上海製作
那個賣了就有營收
有沒有進展會很清楚的

至於EUV
那還差太遠了
只是個研發階段而已
且沒有看到有何重大的進展
ASML弄了歐美集成技術都得花費百億且非常多年
還得客戶幫出錢
中國連DUV都還沒
EUV就更遠了
一雙玉臂千人枕、半點朱唇萬客嚐,還君明珠雙淚垂、恨不相逢未嫁時
0號機
我覺得就算中國只能做出DUV,也會讓ASML很麻煩,因爲光刻機利潤高,可以補貼下一代的研發費用,尤其是DUV還是主要市場需求。如果DUV中國研究出來可以便宜賣,那對ASML影響不少。
wengmingmai wrote:
A S M L: 過...(恕刪)


又不是給圖就會做
現在給圖中國也是不行啊
對ASML來說
當然最佳選擇是中國不開發一直跟ASML買阿
但美國干預下中國得走自主開發的路
我沒覺得中國可以很快追上來
但同樣不覺得中國就追不上來
要花點時間那是跑不掉的
一雙玉臂千人枕、半點朱唇萬客嚐,還君明珠雙淚垂、恨不相逢未嫁時
Derek2025
你的語氣還真像ASML的總裁啊!
wengmingmai wrote:
現在到底是什麼狀況?有人知道?


其實我之前都有貼過類似的文,現在再貼一次。

能被ASML這樣罵,就代表中國研發成功了。

下面是一個月前的新聞(ASML那樣罵的時間也該是那時吧!):

“能造5nm芯片的EUV光刻機,三大核心技術均已被我國突破

能夠製造5nm芯片的EUV光刻機,其三大核心技術均已被我國突破,高端製程的芯片製造已徹底為我國打開了大門。

自美國發動貿易戰以來,芯片製裁是美國為數極少的可以噁心到我們的領域,不知道多少專家翻來覆去的說光刻機乃全球人類智慧的結晶,是來自30多個國家的5000多家供應商合力而成,憑中國一國之力根本不可能搞定這東西。

但我們在短短幾年之內實現了芯片製造的國產化。

從90nm光刻機開始,我們連續突破了65nm,55nm,28nm等多個技術等級的光刻機,目前已實現28nm的光刻機量產。

28nm為芯片主流成熟製程,可滿足全球芯片需求的70%以上。
按理說這也夠了,成功研發出28nm純國產光刻機後,單純從經濟上來說,美國的芯片製裁就已經失敗了。

但芯片這東西被美國打成了政治牌,不僅代表經濟,還代表美國無可匹敵的技術實力和號召能力,7nm和5nm高端芯片的製造能力已經不僅僅是錢的問題了,更成了一種象徵。

所以我們不能滿足於28nm光刻機,既然要做就一口氣做到底,借美國大打芯片牌的機會一口氣打碎美國技術無敵的濾鏡,並且讓敢於跟隨美國製裁我國的商家虧損慘重,以儆效尤。

在純國產28nm芯片生產線正式投產的同時,上海微電子研發的DUV光刻機利用多次曝光的技術可強行生產出7nm的芯片,解決了我國高端國產芯片從無到有的問題。

但這種多次曝光技術成本太高,造出來的7nm芯片沒有商業大規模量產的價值,達不到我國徹底打碎美國芯片封鎖的需求。

想真正生產出純國產的高端芯片,以一國之力匹敵全世界的技術聯盟,必須突破EUV光刻機技術。

和中低端光刻機相比,EUV光刻機從原理上就完全不同,所以哪怕常規技術路線可以迅速從90nm升級到28nm,也製造不出來7nm和5nm的芯片。

想商業量產7nm、5nm和全球都正在研發中的3nm芯片,國際公認必須要有EUV光刻機,而這東西只有荷蘭ASML公司可以生產,甚至ASML都有90%的零部件採購自30多個國家,自己只負責組裝,能荷蘭自產的只有10%。

所以ASML的技術負責人說即便把圖紙給中國我們也造不出來,因為在買不到零部件的前提下,他們自己都造不出來,何況別人。

EUV光刻機共有三大核心技術,分別為EUV光源系統,高精度弧形反射鏡系統、超高精度真空雙工件台。

中國並非毫無技術底蘊,這三大核心技術其實還是有一個的。
早在2015年,中國的長春光機所就已經研發出了EUV光刻機的高精度弧形反射鏡系統,多層層鍍膜面形誤差小於0.1nm,達到了EUV級光刻機的標準。

但這套系統有個小問題,並非所有零部件都是國產的,其中鍍膜裝置採購自海外。

放在外國的話,長春光機所的這項技術就已經是人類最頂尖級別的了,但當被禁售制裁導致鍍膜裝置買不到後就全廢了。

我們知道如何製造人類最頂級的高精度弧形反射鏡系統,但缺少鍍膜裝置這個零部件,導致整個系統都無法製造。

2021年7月,中科院控股企業北京中科科美成功研發出鍍膜精度控制在0.1nm以內的直線式勞埃透鏡鍍膜裝置及納米聚焦鏡鍍膜裝置,滿足了長春光機所對零部件的技術要求。

中科科美研發的鍍膜裝置送到長春光機所後,我國立刻製造出了EUV級光刻機級別的高精度弧形反射鏡系統。

這次純國產,每一個零部件都是國產。

至此EUV光刻機的三大核心技術被我國突破了一個,還剩兩個。
2022年,哈工大傳來喜訊,該大學科研組成功研發出真空用超高精度激光干涉儀,位移分辨力5pm,位移測量標準差達到30pm,關鍵指標與ASML最高水平接近,滿足EUV真空雙工件台對高速超精密激光干涉儀的精度要求。

雙工件台造起來不難,但雙工件台的工作精度由激光干涉儀決定。

我國突破了真空用超高精度激光干涉儀的關鍵技術,就可以輕鬆製造超高精度的真空雙工件台。

憑此貢獻,哈工大於2022年榮獲中國光學領域最高榮譽金隧獎,並在金獎名單裡位列第一。

為什麼美國要把哈工大列入製裁實體清單,拼命遏制這個學校的發展,現在你應該知道了。

美國的製裁清單都是精挑細選的,從來都不會冤枉任何人,不夠格的是不配上清單的。

因為哈工大的貢獻,EUV級光刻機的三大核心技術的第二項,被我國成功突破。

還剩下的那最後一項是EUV光源系統,也是核心的核心。

光刻機光刻機,聽名字你就知道光源才是最核心的東西,而EUV光源則是EUV光刻機的心臟部件。

這玩意全球只有美國會造,多年來都明文列入瓦森納協定,美國麾下的42個瓦森納成員國集體對中國嚴格禁售。

沒有EUV級光源,哪怕其他光刻機部件中國全都造出來了也沒用。

2022年下半年,有小道消息說中國已成功研發出EUV級光源,但並沒有官方信息證實。

2023年4月13日,長春光機所官網公佈消息,中國科學院院士、中國科學院前院長白春禮在長春光機所參觀了EUV光源系統。

這是中國首次官方證實了我國已成功研發出EUV光源系統。

而且在官網的介紹裡,明確寫著白春禮參觀的是EUV光源樣機,也就是說長春光機所連工程樣機都已經製造出來了。

所謂工程樣機,指的是面向商用研製的1:1樣機,在通過驗收後就可以直接量產,交付客戶使用。

按中國的“潛規則”,工程樣機沒有經過嚴格測試認定成功之前是不可能邀請領導來參觀的,敢讓領導來參觀並在官網上對外公佈,那就說明該工程樣機不僅製造成功且已經通過了測試。

倒算時間,長春光機所在實驗室裡成功研發出EUV光源那就是去年底,小道消息沒有錯,只是官網通告要把方方面面都測試到萬無一失才可以,所以又等了半年才公佈。

至此,中國成功突破了EUV光刻機的所有關鍵技術,跨過了高端光刻機和中端光刻機的關鍵門檻,純國產7nm和5nm甚至3nm芯片生產線的大門已被中國徹底打開。

對此消息,外媒的評價是“炸裂式技術突破”。

按光刻機行業的正常進度,光源樣機造出後只要一年時間就可以製造出用於芯片製造的光刻機,然後各種測試、磨合和商業化規模應用大概要花費2年的時間。

換句話說,2024年中國將成功製造出純國產的EUV級光刻機整機,2026年之前將徹底落地商業化規模生產,如果各企業及監管部門通力協作加班加點,這個時間還可以提前。

中國原計劃是2030年之前突破EUV光刻機,按目前的進度看絕對可以大大提前,將至少提前4年,甚至5年。

隨著中國對EUV光刻機研發進度的不斷增長,ASML對中國的態度也在不斷變化。

美國剛啟動對華製裁時,ASML的一個工程師網上發文說就算給中國人圖紙他們也造不出光刻機,甚至還說:

先別提把極紫外光刻機EUV給造出來,就是把EUV給用好都是一件無比複雜的事情,台積電算是我們的客戶,我很佩服台積電的工程師或者說他們整個的體系。他們對光刻機的使用技巧達到了某種讓人欽佩的高度。

意思很明確,他認為中國人別說造出EUV光刻機,就連用好EUV光刻機都夠嗆。

2021年7月,中國造出了純國產的高精度弧形反射鏡系統並公示。

2022年1月,ASML總裁溫克寧在公開場合表示:

中國目前不太可能獨立掌握頂級光刻技術,因為阿斯麥依賴於"不懈的創新",並整合了只有非中國供應商才能獲得的組件。

但同時他也說:

中國並非永遠無法掌握頂級光刻技術,因為我們所知道的物理定律,中國人也知道,他們一定會努力去掌握這項技術。永遠不要說得太絕對。他們肯定在嘗試。”

簡單的說,總裁先生認為中國的研發有點威脅,需要略加警惕,但威脅不大。

2022年下半年,哈工大成功研發真空用超高精度激光干涉儀,並公開獲獎。

2023年1月,ASML總裁溫克寧在公開場合表示:

美國帶頭的針對中國半導體行業的製裁措施,不僅不會給中國造成太大傷害,反而會倒逼中國人在高端芯片領域研究出自己的技術。

“中國的物理定律和全世界的都一樣,中國沒理由造不出光刻機”

簡單的說,總裁先生改口了,認為中國已具備重大威脅,希望美國立即放鬆制裁,採用傾銷戰術裁來遏制中國光刻機的研發進度,但美國沒有理會荷蘭。

2023年4月13日,長春光機所官網宣布中國已成功研發EUV光源的工程樣機。

溫可寧看了這個消息之後直接炸毛了。

2023年4月17日,荷蘭ASML總裁溫可寧在公開場合發言,炮轟中國光刻機,稱:

“中國自主研發光刻機,自主建設芯片產業鏈,將會破壞全球芯片產業鏈。”

總裁先生您這是,在撒潑打滾?
別那麼著急在地上滾來滾去啊,這才哪到哪啊,等光刻機和芯片的價格被我們打成一折的時候再撒潑打滾也不遲,這就是第二個盾構機,一旦中國全部研發成功必定被打成白菜價,把海外的老牌巨頭全部盪空。

破壞全球芯片產業鏈的不是中國,而是美國,是美國強迫我們自主研發的,荷蘭方面因此產生的一切損失當然應該由美方負責。

可能台積電的工程師只是能把EUV光刻機用好就能把ASML震驚,但我們不是台積電,我們喜歡的不是對著說明書用,而是直接研發製造。

為什麼去年的時候還感7覺中國離高端EUV光刻機差的很遠,今年突然這就全部突破了,一夜之間變化這麼大?

以前有個題目,問的是一個池塘中的睡蓮,已知它每天面積增長一倍,30天能夠長滿全池,那麼鋪滿一半的時候是第多少天?
答案是29天,足足長了29天才鋪滿池塘的一半。

如果你是一個只看表面結果的人,第29天視察池塘的時候會認為睡蓮離長滿全池還差的很遠。

但當你第二天過來的時候,會震驚地發現一夜之間整個池塘居然都長滿了睡蓮。

然後,就到了睡蓮開花的時候了。

在這裡恭喜長春光機所、哈工大科研團隊和中科院所屬單位中科科美,你們三家為我們中國人率先突破了EUV光刻機的三大核心卡脖技術,在這場舉國進行的芯片科技競速中拔得頭籌,立下頭功。”
Derek2025 wrote:
其實我之前都有貼過類...(恕刪)


那很簡單啊
哪一台是中國量產的
今年賣幾台了阿
又跟轟20一樣用喊的
喊到今年還是沒有
年年喊
年年空
一雙玉臂千人枕、半點朱唇萬客嚐,還君明珠雙淚垂、恨不相逢未嫁時
economic wrote:
那很簡單啊
哪一台是中國量產的
今年賣幾台了阿
又跟轟20一樣用喊的
喊到今年還是沒有
年年喊
年年空

樓主有說量產了嗎?#12609進度寫得很清楚。
轟20則一點消息都沒有,當然沒消息不代表就沒進度,轟20是高度保密級的。

光刻機跟轟20根本風馬牛不相及,一講國產光刻機你就扯去轟20,是何道理?
jimny_dc
他是要看到東西才會相信. 他應該是用老外的研發速度來估計.
殲二十 wrote:
樓主有說量產了嗎?#12609...(恕刪)


沒量產那這麼重大的科技突破央視不頭條報導的喔
國家重大科技獎項不給的喔
國際間具備比較好公信力的媒體都沒新聞的喔
中國好棒棒自己喊喊喔
一雙玉臂千人枕、半點朱唇萬客嚐,還君明珠雙淚垂、恨不相逢未嫁時
economic wrote:
沒量產那這麼重大的科技突破央視不頭條報導的喔
國家重大科技獎項不給的喔
國際間具備比較好公信力的媒體都沒新聞的喔
中國好棒棒自己喊喊喔


央視不報,也可能是中國想低調處理這些突破,以免引來更多封鎖制裁,可能認為要等光刻機工程樣機出來(甚至量產)才出新聞,也可能是我們不知道的原因。央視報不報,和是否事實,不一定有直接關係。

長春光機所官網宣布成功研發EUV光源的工程樣機的日子是4月3日,才一個半月前的日子,要宣佈獲獎也沒有這麼快吧?

至於西方,既不是光刻機工程樣機,又不是量產,以西方一直避免向公眾宣揚"中國越來越強大"的尿性,不替中國賣廣告有這麼稀奇嗎? 俄烏戰事中對俄有利的消息,你又從西媒中聽到多少?

當然,你要不信,也很正常。至少,ASML的總裁,看他的談話,他應該是知道內情的。

其實,也不用等多久,那篇貼文也說了,

"按光刻機行業的正常進度,光源樣機造出後只要一年時間就可以製造出用於芯片製造的光刻機,然後各種測試、磨合和商業化規模應用大概要花費2年的時間。

換句話說,2024年中國將成功製造出純國產的EUV級光刻機整機,2026年之前將徹底落地商業化規模生產,如果各企業及監管部門通力協作加班加點,這個時間還可以提前。"

是真是假,以中國的"速度",很快便會知道。

(以你們這種"保守"的態度,我終於明白,為何你們對台積電的將來那麼樂觀了。)
無巧不巧,下面是一篇2021年的新聞:

(當然,這篇新聞和上次的貼文並無直接關係)

中國三年能造光刻機


新結構經濟學領軍人林毅夫

五月二十七日的「中國企業未來發展論壇」上,新結構經濟學研究院院長林毅夫說,艾司摩爾(ASML)的CEO擔心若封鎖中國技術,不把光刻機賣給中國,中國有機會在三年內自主掌握技術,能以中國較低的生產成本進佔國際市場,「那時候ASML可能就退出了世界光刻機市場」。艾司摩爾是半導體裝置製造商,有員工二萬八千多名,業務遍布世界十六個國家和地區。核心產品是用於生產大規模集成電路的核心裝置曝光機,國際市佔率達九成。"
john65537
還要擔心矽photonic晶片的實用化,這也會改變半導體行業的遊戲規則。
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