北漂彰化人 wrote:中國很多東西都是默默...(恕刪) 高通, 5G晶片組的專家,今天說, 華為9000S, 仍在用落伍多年的舊技術.... 哈哈. 說到真正重點華為缺乏軟體, 也辭退不少工程師, 沒有足夠的晶片設計實力, 無力全面更新技術, 沿用許多舊的設計
Panchrotal wrote:"只到28奈米" 才幾年已經超過世界第二 你們那第二跟你們吹上天的高鐵一樣用的都是別人的零件真以為你們世界第二啊?你們的完全自製水平停留在微米級而且性能還跟別人天差地遠為甚麽上海微電子到現在只有你國政治性配給賣了幾台出去?穩定性爛是一種原因零組件握在別人手上也是一原因恩對!我知道你接下來要說ASML光刻機也是萬國零組件可是這些萬國不會動不動就像你家土共來個歷史文件啊事實上完全自製的只有日本光刻機啦
watching-guy wrote:高通, 5G晶片組的專家,今天說, 華為9000S, 仍在用落伍多年的舊技術.... 哈哈. 說到真正重點華為缺乏軟體, 也辭退不少工程師, 沒有足夠的晶片設計實力, 無力全面更新技術, 沿用許多舊的設計 華為竟然用舊技術就能把美國搞得天翻地覆? 未來豈不是把高通打趴在地上
Panchrotal wrote:機台第一是ASML世界第二是Nikon 研究廿年目前達到38nm"只到28奈米" 才幾年已經超過世界第二 這部分因為是非本業, 所以資訊都是網路搜尋出來的, 有錯歡迎指正https://mp.ofweek.com/ee/a256714247357這篇今年初中國的報導提到 Nikon 的光刻機是可以達到7nm的浸潤式光刻機在多重曝光後,最高是能夠實現7nm精度的,比如尼康就有類似的光刻機,ASML的浸潤式光刻機,也可以實現7nm。這篇報導的資訊顯示當時上海微電子的光刻機只到90nm,採用的應該是第四代的 ArF 光刻機如果我前面引的資料內容正確, 今年底能達到28nm的話,這表示中國已經開發出第五代的ArFi 光刻機至於EUV, 個人覺得技術問題真的比較大ASML 2011年就開發出第一台 EUV (https://news.cnyes.com/news/id/5093583)可是要等到2017 年改善到 250瓦 的輸出, 才能正式提供商業用途因此中國要在短期內突破的困難度真的不小
不是假消息又是無預警下華為再推出兩款 5G手機比 Mate 60 Pro 更強悍的 Mate 60 Pro +https://hk.news.yahoo.com/huawei-mate-60-pro-plus-mate-x5-033431195.htmlMate X5 摺疊手機暫時不知道使用什麼處理器.