Tracy k wrote:
其實只要把ASML的DUV光源部分
移除,改成外部導入光源,
一台土炮改裝版EUV光刻機就出來了...(恕刪)
可是193Arf的DUV是穿透(Trans)光源曝光,13.5nm的EUV只能全反射(Ref),
把EUV光打進DUV的第一道透鏡後不只光源衰減嚴重,過兩三道就沒強度,偏折也會偏到控制不了的程度喔
我只談論技術,新聞的一些玄學建議聽聽就好

對岸是靠DUV狂堆Mask的方式,畢竟成熟製程技術面來說光源好控制
Tracy k wrote:
半年前就有中國euv...(恕刪)
奸20戰雞 wrote:
我很好奇這樣的環型加速器需要的能量很大吧,
一定超耗電,就算達到了EUV的波長,光的強度也足夠,
但電費一定超高,很懷疑會有經濟效益嗎 我看是沒有,越做越賠錢...(恕刪)
squcookies wrote:華為euv物鏡專利
可是193Arf的DUV...(恕刪)