英國金融時報：中芯國際測試28奈米國產DUV，可生產7奈米晶片，初步測試結果令人鼓舞！

blueozone0130 wrote:
你都知道長年用相同波長孔徑不可能其他項沒變提升奈米精度，那你是在該什麼？

blueozone0130 wrote:
先生你是不是分辨率(對應製程)跟套刻精度傻傻分不清？

哇哇哇！
支那DUV的精度38nm，果然世界最強，完全展現支那人數大便是美的審美觀

blueozone0130 wrote:
閣下既然知道相同波長孔徑，改變其他項可以提升精度，那你應該認同ASML的DUV改進很多版了吧？

Panchrotal wrote:
自己加字栽贓是我說的你有限的知識精度只能代表套刻精度嗎我從頭到尾沒提到套刻怎麼變成是我混淆套刻精度

blueozone0130 wrote:
笑死
外行丟臉正常，死硬凹更難看，真是下夕下井

栽贓？ 不懂就不懂，扯栽贓有夠難看

blueozone0130 wrote:
閣下既然知道相同波長孔徑，改變其他項可以提升精度，那你應該認同ASML的DUV改進很多版了吧？

blueozone0130 wrote:
38nm不管是哪種說法，都沒有用到“精度”二字，只有你這種不懂裝懂的外行才會口誤，

外行還敢死硬凹，臉皮真是厚！

Panchrotal wrote:
轉移話題拿我沒說的字栽贓就是迴避拒答ASML DUV在波長孔徑都固定下到底提升哪一項？