中國光

「理論上」可做3奈米！中國光刻機技術傳重大突破與ASML走不同路繞開封鎖中國科學院近日成功研發突破性的深紫外光曝光機 (DUV) ，可發射波長193nm的光子，與目前主流波長一致，理論上能將半導體工藝推進至3... 更多

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