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有關於中國的EUV光源的開發...

Sinfield

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樓主

Sinfield

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不吃菜菜小娃 wrote:
這些美、日、等國家當...(恕刪)

美國以前沒在擋成熟製程
所以中國本來就拿的到ASML的機台
問題是現在美國在限制DUV的機型銷中國
就是不讓中國用成熟製程改成7nm製程
雖然中國良率低的可怕⋯

看看中芯的財報就知道了
約接虧越多～

不吃菜菜小娃

445分

182樓

不吃菜菜小娃

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Sinfield wrote:
其實一般人只知曝光機
其實四重曝光的線寬與曝光機無關
而是控制spacer沈積時間來決定sidewall的寬度...(恕刪)

重點中的重點、你早點出來解釋啦笑到噴淚

不吃菜菜小娃

445分

183樓

不吃菜菜小娃

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Sinfield wrote:
美國以前沒在擋成熟製...(恕刪)

正確、有些人以為我貼的那張膜很便宜、看你多會曝光、曝越多日本人越爽、有種次數到了不要撕掉重新再貼看看有什麼後果。
不貴！EUV的一張膜一萬多而已。

Sinfield

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樓主

Sinfield

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超級小任任 wrote:
但目前製程較為落後，頻率就是上不去，
...(恕刪)

頻率的問題其實是製程問題

我舉Intel做個例子
其實Intel的i3, i5, i7型號很多

但是i3只有一種光罩設計
IC 是100%全檢
每一道製程都有uniformity問題
良率是只能work的die

但是有些die雖然可以work
但是內阻高
例如蝕刻時控制wafer中心與外圍差多一些
還有填溝填的不好有void
導致chip 內阻高
頻率高發熱嚴重要降頻跑

所以Intel的那些型號
可超頻版本內阻低接近設計值
那些內阻稍高的只能降頻跑
同一個光罩設計
不同性能賣不同價錢～

以前Intel那些噴火龍
直覺是製程問題

iPhone有一代是同時採用台積電的16nm與三星的14nm製程

結果台積電版發熱低大家在搶

從那一代以後
Apple就不再用三星的製程了～笑到噴淚

殲二十

810分

185樓

殲二十

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ho520 wrote:
之前已經賣到中國的機台設備

有可能禁止中國人在中國幫華為生產嗎？

按你的意思推演：
ASML現在還在賣DUV給中國，而只要DUV賣到了中國，
美國就禁止不了用這DUV幫華為生產，所以結果就是，
華為有源源不絕的ASML DUV可用。

如此說來，美國禁止ASML的DUV用於為華為生產晶片，
其實根本沒有任何作用，就是一條廢令? 笑到噴淚

Sinfield

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不吃菜菜小娃 wrote:
重點中的重點、你早點...(恕刪)

懂這的人不多
坊間的半導體製程的書不會寫這麼細啦
搞製程很吃經驗
牽一髮而動全身

物理問題有重現性
化學問題如材料每批可能略有差異
還有不同放置時間感光衰減
理論與實際有差

我一個朋友以前在中科院後來退休
他被軍方派去以色列拿博士
他老闆就是第一個開發出XeF2的祖師爺
他說
Chemistry 就是
Chem is try!

材料工業與製程技術很難彎道超車～
當然小粉紅可以無視物理與化學定律
喊口號就可以生出來～