尤其是微機電製程的都不陌生
LIGA製程
就是利用同步輻射光源來進行曝光
這是德國在幾十年前開發出來的特殊製程
同步輻射光的能量太強
所以光罩很難做
解析度也不夠
光阻也只能用特殊光阻
學名叫PMMA
俗名叫壓克力...
LIGA製程的特點是用於厚膜光阻製程
然後利用微電鑄製造微模具
然後進行翻模與壓印
光阻厚度記得沒錯的話可以到3mm
然後
然後就沒有量產...
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光源與光阻是半導體微影製程的兩大難題
光阻可是日本人壟斷...
反正現在中國正嗨
要吹就讓中國繼續吹~
EUV製程從無到有花了40年才量產
集全世界的科技發展於一身還要花40年...
不過對於學術界...
清華大學這招好
經費一騙就是天文數字~
光罩與光阻,機台難做是其他人的事
真的高招...
沒花時間去清華大學網站去查是哪一批人的想法
大概是搞微機電的教授的想法
那些教授每天都在教半導體製程與微機電製程與相關的研究
有這種推論很正常
但實際用於商業化量產嘛....
不是教授的事
當初提出EUV製程的教授是一位日本教授
不過日本的Nikon與Canon都反對...
2000年時的曝光機霸主是Nikon
過了40年後才被荷蘭+德國+美國聯合開發量產...
出論文與出量產品的差異
中間的時間與努力
在小粉紅的作文中根本不存在...
