滿滿的大樓梯 wrote:
哈工大搞的這個人家幾十年前就印證不可行的東西
大家都心知肚明這是一個騙錢的計劃
你要ASML評論什麼
幾十年前的人傻
你跟他一樣傻？
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美國人不允許，日本就算有天大的本事，也啥都不敢做。拿日本這個“美國殖民地”作比，其實根本無法當作參照物。[真心不騙][^++^]
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中國可持續性崩潰二十年了，還有人相信這幫輪子獨蟲的鬼話嗎？[很混]
tnkk01崩潰二十年不行那就改崩潰三千年[XD]
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中國不是突破 是偷破啦 偷偷偷
選舉綠區無法接受大陸崛起，只能嘲諷，你也太可憐了，大過年的，就讓你自己陶醉在井裡吧！[笑到噴淚]
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綠腦蟾也是會進化的，現在已經進化成酸中國做不出整個產業鏈
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bbvvccjojotv wrote:
這是該大學新聞公告，應該有這一回事。
這個計畫主持人是對岸短波激光專家，哈工大"光電子信息科學與技術系"教授，黑龍江省光學學會理事長/IEEE會員。X射線EUV是他的研究領域，人家念博士的時候就是搞這個了。值得注意的是，此人並不是什麼海龜學人，他老兄從哈工大本科一路念碩士博士，然後在母校拿教職做研究，在台灣一般稱作"土博士"。
PO文標題有很大錯誤，因為哈工大的研究成果，是EUV(光刻機)光源，而非"光刻機"，而且光源能量還不足以應用在商業設備，只有不到50W。而目前ASML運用在5納米生產光刻機的光源強度到500W，估計未來生產1納米製程設備甚至可能需要到1000W。
哈工大EUV光源技術路線是LPP，跟ASML現有光源系統供應商Cymer採用的DPP技術不同。而LPP最大的問題是能量提升瓶頸，是需要攻克的重點，可能是這位激光專家扮演的角色；跟前一陣子外傳清華的粒子加速器EUV光源比，面對的問題又是大相逕庭，而且投入的專家領域也完全不同。這兩種技術發展出的光刻機整合方案，也會是南轅北轍，充滿想像空間。
對岸的大學賺錢模式，跟美國比較像，研發成果最後可能會以授權，或是技術打包作價找金主成立公司進行商用化，這些學校基本上都賺得盆買缽滿，另一方面充裕的經費挹注對支持基礎研究形成正向助力，讓學校能專心搞基礎研究帶研究生。
以之前ASML的經驗, 250W應該就可以進行商業使用了, 不過即使是250W, 5倍的能量提升, 也不曉得要搞多久
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