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小惡魔市集悅遊日本活動報導

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5466分

樓主

個人積分：5466分

文章編號：90886173

中国浸没式DUV光刻机（28纳米工艺节点）整机已经完成！

浸没式DUV光刻机（28纳米工艺节点）整机已经完成，正在测试中（5月17日报告，消息保真，报告人是参与工件台研发院士。

下一代EUV光刻机相关部件和整机系统正在研制………

中国浸没式DUV光刻机（28纳米工艺节点）整机已经完成！

中国浸没式DUV光刻机（28纳米工艺节点）整机已经完成！

2024-12-30 17:29 #1

Motor123

50085分

2樓

個人積分：50085分

文章編號：90886286

28n……
好吧

gadgetgo

哇賽！ 28奈米耶！好一個遙遙領先！

2025-01-01 17:46

10371分

3樓

個人積分：10371分

文章編號：90886298

真是太快了

2184分

4樓

個人積分：2184分

文章編號：90886436

根本就沒有 28nm 光刻機這東西
7nm, 14nm, 28nm, 40nm 都是同一台 DUV 曝光機器
只不過運用方法不同

摘星子 wrote:
浸没式DUV光刻机（28...(恕刪)

旋風

摘星子那還是垃圾

2024-12-30 18:55

blueozone0130

摘星子你果然聽不懂別人在吐槽你什麼！真的是半導體門外漢一個

2024-12-31 2:12

旋風

10195分

5樓

個人積分：10195分

文章編號：90886595

donhsueh322850 wrote:
真是太快了...(恕刪)

零件還沒鎖
請盡快採購
等到美國的大刀一揮
往下突破到微米等級應該很快
快到你眼都沒眨

sschadliu

奈米比微米還更低, 應該是微微米(皮米 pm) 等級

2024-12-31 18:21

nomo333

980分

6樓

個人積分：980分

文章編號：90886670

實際已經在晶圓廠生產
所謂的28奈米只是計畫名稱
DUVi第一代
就可以做到7奈米第一代FinFET
2021年定型
2022年開始量產
DUVi第二代
2023年開始量產
做7奈米第二代FinFET
甚至可到5奈米，但要直接上EUV

5466分

樓主

個人積分：5466分

文章編號：90886682

nomo333 wrote:
實際已經在晶圓廠生產...(恕刪)

真正的国产光刻机造的7nm未来两年内应该可以出来吧

GuatingChua

聽到消息，明年下半年有譜

2024-12-30 22:26

VincentLu1021

只是可能而已?? 你們那麼厲害還用 "可能" 這2個字?

2024-12-31 11:23

nomo333

980分

8樓

個人積分：980分

文章編號：90886691

摘星子 wrote:
真正的国产光刻机造的7nm未来两年内应该可以出来吧

這幾年麒麟7奈米晶片
都是中芯用國產DUVi生產的
中芯、華為被制裁
無法用ASML生產

2184分

9樓

個人積分：2184分

文章編號：90886696

中國做這些重要的裝備都不會讓外面的的人知道,
因為國內市場已經足夠大, 不用向外銷售
做了出來用亦不會宣傳.
就如那兩架 6 代機一樣
美國的 6 代機還是劃圖紙
中國的已經在天上飛

摘星子 wrote:
真正的国产光刻机造的7nm未来两年内应该可以出来吧

wonderzero2

依我看只要具有小型指揮群功能的+主動反擊導彈（據有智慧化的戰機）

2024-12-31 18:02

凱倫wu

最近對岸拿來玩都一次萬台軍用還會遠嗎?... https://www.youtube.com/watch?v=-hmZtf4Hd6Y

2025-01-15 15:45

11376分

10樓

個人積分：11376分

文章編號：90886756

DUV.EUV主要差在光源
DUV已經能生產
代表光源問題如果解決
EUV也快出來了

chachaping

當然不是啦, DUV 是透鏡, EUV 是反射鏡, 而且 EUV 要在真空環境生產, 技術完全不同.

2024-12-30 19:47

VincentLu1021

線徑細，光源波長要短，太短的波會被透鏡吸收，所以只能用反射式鏡片。

2025-01-04 22:35

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