「理論上」可做3奈米!中國光刻機技術傳重大突破 與ASML走不同路繞開封鎖中國科學院近日成功研發突破性的深紫外光曝光機 (DUV) ,可發射波長193nm的光子,與目前主流波長一致,理論上能將半導體工藝推進至3奈米,並且在技術上與艾司摩爾(ASML)、佳能(Canon)、尼康(Nikon)等國際大廠不同;不過目前輸出功率、頻率都與商用水準有落差,仍需繼續研發「理論上」是學術說詞
理性分析來看 按照過去的經驗 製造出光刻機基本上是早晚的事情畢竟中國其實不善於創新 而是善於在現有的東西上抄襲並且改良這早就是行之有年而且到處都是這樣商業化的成果了理論上來說光刻機也不會例外 只是估計需要點時間畢竟其他廠商可是花了20~30年甚至更久的時間才達到現在的工藝而中國其實是在晶片封鎖之後才開始真正在考慮這方面的事情 其實時間還太短了而且其實美國一大堆科技人才其實都是印度和中國人占據一半以上中國人肯定是有能力搞出來 畢竟美國科技廠很多都是中國人是不爭的事實了只是看政府有沒有辦法留住這些人才了